供应上海导电炭黑水性色浆研磨分散机

IKN研磨分散机te点：

1、胶体磨+分散机二合一设计：粉碎室设有三道磨碎区，一级为粗磨碎区，二级为细磨碎区，三层为抄微磨碎区，通过调整定、转子的间隙，能**地达到所需的抄微粉碎**（也可循环加工）。

  2、间隙可调，研磨缝隙调节可以改变适用于te定工艺

3、设备(http://www.chemdrug.com/sell/22/)运转速度高达14000转，是国nei普通分散机的4-5倍，gao效细化分散研磨物料

4、机身腔体采用三层夹套设计可以冷却也可以加热

5、采用德国双端面机械(http://www.chemdrug.com/sell/22/)密封，在宝证有冷却水的情况下，可以24小时连续不间断工作

6、从实验室设备平稳过渡到中试型实验以及后期的工业化放大实验，无需重新调整实验数据，ji大程度降低了风险

ikn炭黑树脂复合研磨分散机与间歇式的行星搅拌器混合装置相bi，在导电炭黑粉末材料（固相）与溶剂（液相）的混合、炭黑浆料的均匀分散上具有相对的优势，表现在：

1. 导电炭黑粉末材料（固相）与溶剂（液相）能实现在线湿化，ji少发生团聚现象，粉液混合效率ji高。

2. 连续式分散工艺，混合分散效率高，时间短，能量消耗小。

3. 全密闭式分散腔，避免空气引入影响分散**，设备能实现在线清洗，清洗操作方便gao效。

4. 全密闭式分散系统能耐压工作，连续式工艺能实现量产，设备占地面积小，维护成本低。

5. 经细分散能量输入可控，所得浆料粒径分布窄，产品(http://www.chemdrug.com/invest/)质量geng稳定。

IKN研磨分散机是将胶体磨和分散机一体化的设备，先研磨后分散，先将锂电池浆料的团聚体先打开，然后再进行分散。IKN研磨分散机在国nei多家大型锂电池、石墨烯、新材料厂家(http://www.chemdrug.com/company/)都有着突出的应用。

传统小型乳化机的弊端：

传统的批次乳化机用于研发，**或许可以达到要求，但是摸索出来的设备参数完全不可用，批次的乳化机wu法线性放大，所以后期工业化生产jiu需要重新摸索参数，这样会导致效率低、风险大。

中试型分散乳化均质机在设计上的突出特点：

① 可geng换式加工模块，实现混合，分散，均质，乳化，悬浮，湿磨，液粉混合等多种功能。

② 中试到生产，无需重新调整工艺参数。

③ 轴封材料为PTFE，易于geng换。

④ 可配置变频控制柜，调节转速及流量。

5整体机身采用夹套设计，可灵活控制实验过程中的温度变化。

ikn循环式作业方式的研磨分散机是一款改进型胶体磨，特别适合新材料的研究制备，目前已成功应用于硅硼浆、石墨烯、石墨烯改性材料、碳纳米管、光伏材料、光催化研究，军工研究等多项科研中，同时还广泛应用于医药(http://www.chemdrug.com/)方面，悬浮液，膏剂，粉剂，针剂等多种均适用。具体详情请接洽上海依肯 林工

CMSD 2000系列研磨分散机设备选型表

表中上限处理量是指介质为“水”的测定数据。

流量取决于设置的间隙和被处理物料的te性，可以被调节到zui大允许量的10%

从设备角度分析(http://www.chemdrug.com/sell/76/)，影响研磨**的因素：

1 磨头的形式（卧式和立式）

2 磨头的剪切速率

3 磨头的齿形结构（见磨头结构）

4 物料在磨头墙体的停留时间，乳化分散时间

5 循环次数

研磨速率的定义是两表面之间液体层的相对速率。

ned="t" path="m,l21600,21600e" filled="f">nnecttype="none">nnectortype="straight">研磨速率 (s-1) = v  速率 (m/s)  
g 定-转子 间距 (m)

由上可知，研磨速率取决于以下因素：

–   磨头的线速率

–   在这种请况下两表面间的距离为转子-定子 间距。 （相对而言）

速率V=  3.14 X  D（转子直径）X 转速 RPM  /   60